【摘要】本實(shí)用新型是一種立式散煤上進(jìn)風(fēng)燃燒鍋爐，由 煙囪底座、煙管、爐膛、水冷爐排、燃燒室、外側(cè)燃燒室、活 動爐排、底座組成，其特征在于在爐膛內(nèi)設(shè)置一次風(fēng)管。本實(shí) 用新型由于采用了上進(jìn)風(fēng)反燒法具有結(jié)構(gòu)緊湊，鍋爐體積小， 高度低，占用空間小，
【摘要】 本發(fā)明提供一種高介電常數(shù)介電層的形成方法、半導(dǎo)體裝置及其制造方法。所述高介電常數(shù)介電層的形成方法，包括：于襯底上形成一第一介電層；于第一介電層上形成一金屬材料層；于金屬材料層上形成一第二介電層；以及于一氧化環(huán)境中對襯底實(shí)施一退火處理，并持續(xù)退火處理直到第一介電層、金屬材料層及第二介電層結(jié)合形成均質(zhì)的該高介電常數(shù)介電層。通過本發(fā)明可以提高金屬氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管的性能。 【專利類型】發(fā)明申請 【申請人】臺灣積體電路制造股份有限公司 【申請人類型】企業(yè) 【申請人地址】中國臺灣新竹市 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】臺灣省 【申請?zhí)枴緾N200610164028.4 【申請日】2006-12-05 【申請年份】2006 【公開公告號】CN1983524A 【公開公告日】2007-06-20 【公開公告年份】2007 【授權(quán)公告號】CN100517601C 【授權(quán)公告日】2009-07-22 【授權(quán)公告年份】2009.0 【IPC分類號】H01L21/31; H01L21/28; H01L21/336; H01L29/51; H01L29/78 【發(fā)明人】張世勛; 顏豐裕; 林秉順; 金鷹; 陶宏遠(yuǎn) 【主權(quán)項(xiàng)內(nèi)容】1.一種高介電常數(shù)介電層的形成方法，包括： 于襯底上形成一第一介電層； 于所述第一介電層上形成一金屬材料層； 于所述金屬材料層上形成一第二介電層；以及 于一氧化環(huán)境中對所述襯底實(shí)施一退火處理，并持續(xù)所述退火處理直到 所述第一介電層、所述金屬材料層及所述第二介電層結(jié)合形成均質(zhì)的所述高 介電常數(shù)介電層。 【當(dāng)前權(quán)利人】臺灣積體電路制造股份有限公司 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】中國臺灣新竹市 【被引證次數(shù)】4 【被自引次數(shù)】2.0 【被他引次數(shù)】2.0 【家族被引證次數(shù)】4
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