【摘要】本發(fā)明公開了一種有機(jī)發(fā)光裝置，包括：基板； 薄膜晶體管，設(shè)置在該基板的第一部上；彩色濾光層，設(shè)置在 該基板上異于該第一部的第二部上；平坦層，覆蓋該彩色濾光 層與該薄膜晶體管；一對開口，通過該平坦層和部分該薄膜晶 體管，分別露出該薄膜
【摘要】 一種足部測量與鞋子制造的系統(tǒng)及方法。首先，測量足部的3D足部外形架構(gòu)與相應(yīng)足部底部的壓力數(shù)據(jù)，且依據(jù)這些數(shù)據(jù)分別辨識第一組與第二組特征點。依據(jù)第二組特征點調(diào)整一預(yù)設(shè)的足部骨骼樣版模型，并依據(jù)第一組特征點與調(diào)整后的足部骨骼樣版模型的突出點將調(diào)整后的足部骨骼樣版模型合并至3D足部外形架構(gòu)中。調(diào)整后的足部骨骼樣版模型的突出點與/或關(guān)節(jié)點被連接來產(chǎn)生至少一個線與至少一個面，其分別與3D足部外形架構(gòu)相交于接觸點與接觸面。依據(jù)接觸點間的距離與接觸面的周長來判定足部外形架構(gòu)尺寸。 【專利類型】發(fā)明申請 【申請人】財團(tuán)法人工業(yè)技術(shù)研究院 【申請人類型】科研單位 【申請人地址】中國臺灣新竹縣 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】臺灣省 【申請?zhí)枴緾N200610075377.9 【申請日】2006-04-11 【申請年份】2006 【公開公告號】CN1981664A 【公開公告日】2007-06-20 【公開公告年份】2007 【授權(quán)公告號】CN100571560C 【授權(quán)公告日】2009-12-23 【授權(quán)公告年份】2009.0 【IPC分類號】A43D1/02; A43D1/00 【發(fā)明人】林明慧; 呂東武; 鄭尚元; 連健淋 【主權(quán)項內(nèi)容】1.一種足部測量與鞋子制造的系統(tǒng)，包括： 一足部尺寸測量單元，包括： 一第一感應(yīng)器配件，用以測量一足部的一3D足部外形架構(gòu)；以及 一第二感應(yīng)器配件，用以測量該足部的底部，從而得到相應(yīng)的壓力數(shù)據(jù)； 以及 一處理單元，用以接收該3D足部外形架構(gòu)與該壓力數(shù)據(jù)，依據(jù)該3D足 部外形架構(gòu)判定第一組特征點，依據(jù)該壓力數(shù)據(jù)判定該足部底部的第二組特 征點，依據(jù)所述第二組特征點調(diào)整一預(yù)設(shè)的足部骨骼樣版模型，依據(jù)所述第 一組特征點與調(diào)整后的該足部骨骼樣版模型的突出點將調(diào)整后的該足部骨骼 樣版模型合并至該3D足部外形架構(gòu)中，連接調(diào)整后的足部骨骼樣版模型的突 出點與/或關(guān)節(jié)點來產(chǎn)生至少一個線與至少一個面，其中，該線與面分別與該 3D足部外形架構(gòu)相交于接觸點與接觸面，以及依據(jù)所述接觸點間的距離與所 述接觸面的周長來判定至少一足部外形架構(gòu)尺寸。 【當(dāng)前權(quán)利人】財團(tuán)法人工業(yè)技術(shù)研究院 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】中國臺灣新竹縣 【被引證次數(shù)】6 【被他引次數(shù)】6.0 【家族引證次數(shù)】8.0 【家族被引證次數(shù)】55
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