【摘要】一種位線晶體管其包括,不同的溝道長度,溝道寬度,或兩者兼具以補償位線負載效應。該晶體管結構的溝道長度或溝道寬度可以被配置為實現理想的負載。因此,該位線晶體管結構可以改善整體金屬位線負載的一致性以及提供位線偏壓更好的一致性。此外,位線
【專利類型】外觀設計 【申請人】捷創電子股份有限公司 【申請人類型】企業 【申請人地址】中國臺灣臺北縣汐止市大同路一段292巷2號1樓 【申請人地區】中國 【申請人城市】臺灣省 【申請號】CN200630196770.4 【申請日】2006-11-24 【申請年份】2006 【公開公告號】CN300715555D 【公開公告日】2007-12-05 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN300715555D 【授權公告日】2007-12-05 【授權公告年份】2007.0 【發明人】張怡章 【主權項內容】無 【當前權利人】捷創電子股份有限公司 【當前專利權人地址】中國臺灣臺北縣汐止市大同路一段292巷2號1樓
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