【專利類型】外觀設計【申請人】李正和【申請人類型】個人【申請人地址】臺灣省臺北縣【申請人地區】中國【申請人城市】臺灣省【申請號】CN200630123005.X【申請日】2006-06-26【申請年份】2006【公開公告號】CN365119
【摘要】 本發明為一種令透明基板上透明電極不可見的處理方法,是在一透明基板上布設多條透明電極后,將一非導電納米材料粒子所形成的溶液,涂布在該透明基板及該等透明電極上,該納米材料具有與該透明電極相同的折射率,隨后對該透明基板進行高溫熱處理,經過一段熱處理時間后,在該透明基板及該等透明電極上形成一平整且均勻的遮蔽層,如此,由該遮蔽層,即可使該透明基板上未布設該等透明電極的部位與布設該等透明電極的部位對光線都具有相同的折射率,以有效避免該透明基板上因折射率的不同所導致的畫面影像品質降低的問題。 【專利類型】發明申請 【申請人】宸鴻光電科技股份有限公司 【申請人類型】企業 【申請人地址】臺灣省臺北縣中和市連城路114號3樓 【申請人地區】中國 【申請人城市】臺灣省 【申請號】CN200610080960.9 【申請日】2006-05-23 【申請年份】2006 【公開公告號】CN101078820A 【公開公告日】2007-11-28 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN100555031C 【授權公告日】2009-10-28 【授權公告年份】2009.0 【IPC分類號】G02F1/133; G03F7/16; G03F7/26; G02F1/13 【發明人】胡俊明 【主權項內容】1.一種令透明基板上透明電極不可見的處理方法,該方法應用在布設 有多條透明電極的一透明基板上,其特征在于包括下列步驟: 將具有與該等透明電極相同的折射率的一非導電納米材料粒子所形成 的溶液涂布在該透明基板及該等透明電極上; 對該透明基板進行高溫熱處理,經過一段熱處理時間后,在該透明基 板及該等透明電極上形成一平整且均勻的遮蔽層。 【當前權利人】宸鴻光電科技股份有限公司 【當前專利權人地址】臺灣省臺北市大安區仁愛路三段136號14樓 【被引證次數】25 【被自引次數】4.0 【被他引次數】21.0 【家族引證次數】3.0 【家族被引證次數】25
未經允許不得轉載:http://www.mhvdw.cn/1776695843.html
喜歡就贊一下






