【摘要】本發明揭露一種可適性地調控均衡器的方法。該 方法包含有：使用該均衡器來處理一輸入信號以產生一輸出信 號；判斷該均衡器是否已收斂；以及依據判斷該均衡器是否已 收斂的步驟的判斷結果，來調整該均衡器所使用的一均衡器步 階大小。本發明的有益
【摘要】 本發明提供一種利用25℃常溫以改善高分子材料制作過程中所破壞物性、化性及生物相容性的干燥方法，乃利用25℃常溫干燥方法改善生醫高分子材料制作過程中，對物理性質、化學性質及生物相容性的破壞，以制造出更高品質的生醫產品。 【專利類型】發明申請 【申請人】陳麗文 【申請人類型】個人 【申請人地址】中國臺灣臺北市 【申請人地區】中國 【申請人城市】臺灣省 【申請號】CN200610086845.2 【申請日】2006-06-21 【申請年份】2006 【公開公告號】CN101093136A 【公開公告日】2007-12-26 【公開公告年份】2007 【IPC分類號】F26B7/00 【發明人】陳麗文 【主權項內容】1.一種利用25℃常溫以改善高分子材料制作過程中所破壞物性、化性及生物 相容性的干燥方法，其步驟包括： 提供一高分子材料；以及 利用一25℃常溫干燥以改善高分子材料的制作過程。 【當前權利人】陳麗文 【當前專利權人地址】中國臺灣臺北市
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