【摘要】一種可改善光線輝線現(xiàn)象的光學(xué)元件，該光學(xué)元件具有一入光面及一出光面，供光線經(jīng)由該入光面至出光面而通過該光學(xué)元件，其特征在于：該光學(xué)元件還包含：至少一微結(jié)構(gòu)層，設(shè)置于該入光面或出光面的一面上，該至少一微結(jié)構(gòu)層具有多個(gè)分開的微區(qū)域，該多
【摘要】 一種分色濾光陣列的形成方法。此方法是先于基底上形成第一分色濾光材料層。于第一分色濾光材料層上形成圖案化光致抗蝕劑層后，移除暴露的第一分色濾光材料層，以形成多個(gè)第一分色濾光單元。于基底與圖案化光致抗蝕劑層上形成第二分色濾光材料層。移除圖案化光致抗蝕劑層以及圖案化光致抗蝕劑層上的第二分色濾光材料層，留下多個(gè)第二分色濾光單元，其中第一分色濾光單元與第二分色濾光單元組成分色濾光陣列。通過蝕刻與剝離的方法，同時(shí)移除圖案化光致抗蝕劑層與其上的第二分色濾光材料層，可以大幅簡化分色濾光陣列的工藝步驟，以快速完成體積小的多色濾光陣列元件。 【專利類型】發(fā)明申請 【申請人】聯(lián)華電子股份有限公司; 聯(lián)誠光電股份有限公司 【申請人類型】企業(yè) 【申請人地址】中國臺灣新竹科學(xué)工業(yè)園區(qū) 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】臺灣省 【申請?zhí)枴緾N200610084548.4 【申請日】2006-05-25 【申請年份】2006 【公開公告號】CN101078787A 【公開公告日】2007-11-28 【公開公告年份】2007 【授權(quán)公告號】CN100468093C 【授權(quán)公告日】2009-03-11 【授權(quán)公告年份】2009.0 【IPC分類號】G02B5/20; G03F7/20 【發(fā)明人】吳沂庭; 歐富國 【主權(quán)項(xiàng)內(nèi)容】1.一種分色濾光陣列的形成方法，該方法包括： 于基底上，形成第一分色濾光材料層； 于該第一分色濾光材料層上，形成圖案化光致抗蝕劑層； 移除暴露的該第一分色濾光材料層，以形成多個(gè)第一分色濾光單元； 于該基底與該圖案化光致抗蝕劑層上，形成第二分色濾光材料層；以及 移除該圖案化光致抗蝕劑層以及該圖案化光致抗蝕劑層上的該第二分 色濾光材料層，將該些第一分色濾光單元之間的該第二分色濾光材料層轉(zhuǎn)換 為多個(gè)第二分色濾光單元，其中該些第一分色濾光單元與該些第二分色濾光 單元組成分色濾光陣列。 【當(dāng)前權(quán)利人】聯(lián)華電子股份有限公司; 聯(lián)誠光電股份有限公司 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】中國臺灣新竹科學(xué)工業(yè)園區(qū); 中國臺灣新竹科學(xué)工業(yè)園區(qū) 【被引證次數(shù)】6 【被他引次數(shù)】6.0 【家族引證次數(shù)】3.0 【家族被引證次數(shù)】6
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