【摘要】一種微流體噴射裝置，主要包括硅襯底、歧管、流道以及流體腔。前述歧管、流道以及流體腔形成于襯底上，其中流道連接歧管與流體腔。其中，前述流體腔具有第一側(cè)邊，上述第一側(cè)邊相對(duì)于流道方向傾斜特定角度。【專利類型】發(fā)明申請(qǐng)【申請(qǐng)人】明基電通股
【摘要】 本實(shí)用新型公開了一種顯示器支座組合結(jié)構(gòu)，其 包括一底座，所述底座具有一凹室、一形成在凹室上的凸部、 和所述凹室、凸部共同界定的間隙；以及一可配裝在該底座上 的支架等所構(gòu)成；所述支架包含一固定端和一可樞接顯示器的 自由端，該固定端至少局部部分具有一鉤部，可被拘留在上述 凹室的一穴孔內(nèi)；使支架固定端被固定在該間隙之內(nèi)；但容許 操作者可簡(jiǎn)易解除該鉤部和孔穴的拘留狀態(tài)，從而結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、 操作拆卸組合便捷。 【專利類型】實(shí)用新型 【申請(qǐng)人】呈杰股份有限公司 【申請(qǐng)人類型】企業(yè) 【申請(qǐng)人地址】臺(tái)灣省臺(tái)北縣新莊市化成路325巷12－6號(hào) 【申請(qǐng)人地區(qū)】中國(guó) 【申請(qǐng)人城市】臺(tái)灣省 【申請(qǐng)?zhí)枴緾N200620018553.0 【申請(qǐng)日】2006-03-27 【申請(qǐng)年份】2006 【公開公告號(hào)】CN2891223Y 【公開公告日】2007-04-18 【公開公告年份】2007 【授權(quán)公告號(hào)】CN2891223Y 【授權(quán)公告日】2007-04-18 【授權(quán)公告年份】2007.0 【IPC分類號(hào)】G12B9/08; H05K7/14; F16C11/00; G12B9/00 【發(fā)明人】李錕生 【主權(quán)項(xiàng)內(nèi)容】1.一種顯示器支座組合結(jié)構(gòu)，其包括一底座及一支架，支架 裝配在該底座上，該底座具有一凹室，該支架包含一固定端和一 可樞接顯示器的自由端；其特征在于：所述底座還具有一形成在 凹室上的凸部、和所述凹室、凸部共同界定的間隙，該凹室具有 孔穴，所述支架的固定端具有鉤部，該鉤部可拘留在凹室的孔穴 內(nèi)，支架固定端可收容在凹室之內(nèi)。 【當(dāng)前權(quán)利人】呈杰股份有限公司 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】臺(tái)灣省臺(tái)北縣新莊市化成路325巷12－6號(hào)
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