【摘要】一種建筑用柱頂顯式萬向轉動鑄鋼支座，下節點鑄鋼件由兩個對稱的部分組合成一扁壺形，由彎弧形邊幫圍合成一周圈閉合向上開放的空腔，在底板上面中央位置有一上凸的球冠鉸，在兩個對稱的部分相連處，有一與彎弧形邊幫連為一體的加強肋，兩邊的加強肋之
【摘要】 一種在立方織構金屬基底上制備CeO2緩沖層的方法，包括以下步驟：(1)將具有立方織構的Ni或Ni合金金屬帶材基底清洗干凈，干燥；(2)在溫度為500℃～780℃、Ar/H2混合氣體中，以金屬Ce作為靶材，對Ni或Ni合金基底進行反應濺射，濺射預沉積5～30分鐘，其中，Ar/H2的體積比是50/10～80/10，氣壓為5～80Pa；(3)然后在溫度為500℃～780℃、Ar/O2混合氣體中，以金屬Ce作為靶材，再對Ni或Ni合金基底進行反應濺射，濺射沉積25～150分鐘，其中，Ar/O2的體積比是50/2～80/1，氣壓為5～80Pa，即得到了CeO2緩沖層。該兩步沉積的方法不僅有效抑制了NiO的生成，也保證了CeO2取向的完整性。 【專利類型】發明申請 【申請人】北京有色金屬研究總院 【申請人類型】企業 【申請人地址】100088北京市新街口外大街2號 【申請人地區】中國 【申請人城市】北京市 【申請人區縣】西城區 【申請號】CN200610072920.X 【申請日】2006-04-03 【申請年份】2006 【公開公告號】CN101050518A 【公開公告日】2007-10-10 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN100497722C 【授權公告日】2009-06-10 【授權公告年份】2009.0 【發明人】張華; 楊堅; 劉慧舟 【主權項內容】1、一種在立方織構金屬基底上制備CeO2緩沖層的方法，其特征在于：該 方法包括以下步驟： (1)將具有立方織構的Ni或Ni合金金屬帶材基底進行清洗，干燥后待用； (2)采用通用的濺射設備，將上述基底放入該設備的腔體內的加熱器上， 然后對腔體抽真空，至腔體內的壓力等于或低于1.1×10-2Pa，隨后通入Ar/H2 混合氣體，其中Ar/H2的體積比是50/10～80/10，氣體壓力控制在5～80Pa， 將加熱器溫度升至500℃～780℃，以金屬Ce作為靶材，開始濺射預沉積，進 行兩步沉積的方法中的第一步沉積； (3)Ar/H2氣氛下預沉積5～30分鐘后，暫停濺射，斷開氣路，并將腔體 內殘余的H2抽凈； (4)對腔體內抽真空，至腔體內的壓力等于或低于1.1×10-2Pa，再向腔 體內通入O2和Ar氣，以Ar/O2混合氣體作為反應濺射氣體，Ar/O2體積比是 50/2～80/1，氣體壓力控制在5～80Pa，將加熱器溫度升至500℃～780℃， 以金屬Ce作為靶材，開始濺射沉積25～150分鐘，進行兩步沉積的方法中的 第二步沉積，即得到了CeO2緩沖層。 【當前權利人】有研工程技術研究院有限公司 【當前專利權人地址】北京市懷柔區雁棲經濟開發區興科東大街11號 【被引證次數】1 【被他引次數】1.0 【家族被引證次數】1
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