【摘要】一種圓盤式傾斜摩擦端面離合器，在鍵軸上固裝有鍵軸套和既可軸向滑動又隨鍵軸同時轉(zhuǎn)動的摩擦盤片，鍵軸套上配裝軸承并與離合器殼體裝配在一起，左右殼體間開有多個輻射狀壓力液體輸入孔，殼體的外沿環(huán)設壓力液體輸入環(huán)并可相對于殼體的外沿轉(zhuǎn)動；壓力
【摘要】 一種高密度光柵的制作方法，屬于光學器件的制造、光測力學技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明是在成熟商品儀器激光掃描共聚焦顯微鏡的操作環(huán)境中，利用其照明光源所發(fā)出的波長在光刻膠感光敏感波長范圍內(nèi)的聚焦激光點，對光柵基底材料表面的光刻膠進行掃描曝光，通過調(diào)整激光掃描共聚焦顯微鏡目鏡的放大倍數(shù)、掃描線數(shù)、掃描次數(shù)以及掃描方向，能制作出可變密度、可變深度的單向光柵、正交光柵或應變花光柵；該方法的光柵制作原理清晰，操作簡單，不需要人為布置光路，以及精確調(diào)整激光束的入射角度等重要參數(shù)；無需專業(yè)設備投資，制作成本低。 ： 【專利類型】發(fā)明授權(quán) 【申請人】清華大學 【申請人類型】學校 【申請人地址】100084北京市北京100084－82信箱 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】北京市 【申請人區(qū)縣】海淀區(qū) 【申請?zhí)枴緾N200610011471.8 【申請日】2006-03-10 【申請年份】2006 【公開公告號】CN1333271C 【公開公告日】2007-08-22 【公開公告年份】2007 【授權(quán)公告號】CN1333271C 【授權(quán)公告日】2007-08-22 【授權(quán)公告年份】2007.0 【IPC分類號】G02B5/18; G02B1/00; G03F7/00 【發(fā)明人】謝惠民; 潘兵; 方岱寧; 邢永明; 岸本哲; 戴福隆 【主權(quán)項內(nèi)容】1.一種高密度光柵的制作方法，其特征在于該方法包括如下步驟： 1)將光刻膠通過旋涂設備均勻地涂布在基底材料上，然后將基底材料切割成所需要的 形狀，放置在激光掃描共聚焦顯微鏡的載物臺上； 2)選擇激光掃描共聚焦顯微鏡目鏡的放大倍數(shù)，然后在激光掃描共聚焦顯微鏡附帶的 操作軟件中選擇波長在所述的光刻膠的感光敏感波長范圍內(nèi)的照明光源以及掃描線數(shù)； 3)在激光掃描共聚焦顯微鏡的操作環(huán)境下，利用該顯微鏡照明光源的聚焦光點對基底 材料表面成像范圍內(nèi)的水平或垂直方向進行線掃描曝光，聚焦激光點的直徑由所述的顯微鏡 目鏡的放大倍數(shù)和照明波長決定，聚焦激光點的成像范圍由所述的顯微鏡目鏡的放大倍數(shù)決 定，在所述的激光掃描共聚焦顯微鏡中聚焦激光點的成像范圍內(nèi)通過選擇不同的掃描線數(shù)， 得到不同頻率的溝槽結(jié)構(gòu)，通過增加重復掃描的次數(shù)，得到不同深度的溝槽結(jié)構(gòu)； 4).一個方向掃描結(jié)束之后，將激光束的掃描方向旋轉(zhuǎn)90°或120°，對基底材料表面的 另一方向重復步驟2)進行掃描曝光； 5)經(jīng)顯影、定影、鍍膜和包裝后制成光柵成品，最終制作成高密度光柵。 【當前權(quán)利人】清華大學 【當前專利權(quán)人地址】北京市北京100084－82信箱 【專利權(quán)人類型】公立 【統(tǒng)一社會信用代碼】12100000400000624D 【引證次數(shù)】5.0 【他引次數(shù)】5.0 【家族引證次數(shù)】5.0 【家族被引證次數(shù)】5
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