【摘要】用于計算機的電子數據取證方法，包括：1)策略 生成過程，根據新案件或取證需求，通過多級取證策略生產新 案例的取證策略；2)按需定制過程，根據策略生成過程提交的 取證策略，對取證系統的取證范圍變量進行動態配置；3)實時 取證過程，根據
【摘要】 一種用于連續帶狀基料的真空沉積薄膜裝置，可實現卷帶狀工料在大氣中連續放料，通過數級上行的具有兩個輥軸對滾夾緊帶狀基料的動態真空密封裝置進入一段或分段的高真空環境中進行沉積薄膜，然后再經過下行的動態真空密封裝置返回到大氣中進行收料。所述裝置包括有收放料子系統、糾偏子系統、真空密封子系統、一段或分段的真空室、真空獲得子系統以及真空薄膜沉積子裝置，所述真空密封裝置實現帶狀基料由大氣進/出真空環境的動態密封。本發明能夠實現在帶狀基料上連續進行真空沉積薄膜涂層，具有高生產效率和薄膜涂層質量穩定的特點。 【專利類型】發明申請 【申請人】李博峰 【申請人類型】個人 【申請人地址】100083北京市北京市海淀區海淀區北四環中路209號1－1103 【申請人地區】中國 【申請人城市】北京市 【申請人區縣】海淀區 【申請號】CN200610200516.6 【申請日】2006-06-05 【申請年份】2006 【公開公告號】CN101086058A 【公開公告日】2007-12-12 【公開公告年份】2007 【IPC分類號】C23C14/24 【發明人】李博峰 【主權項內容】1.一種用于連續帶狀基料真空沉積薄膜的裝置，主要包含有一段或 分段的真空室、一組與真空室配合的真空獲得系統，其特征在于：還包含一組用以動態密封 帶狀基料從大氣進/出真空室的真空密封子系統，提供原材料和存放產品的收放料子系統， 用來糾正帶狀基料進出真空密封裝置時產生偏差的糾偏子系統。 【當前權利人】李博峰 【當前專利權人地址】北京市北京市海淀區海淀區北四環中路209號1－1103 【被引證次數】4 【被他引次數】4.0 【家族被引證次數】4
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