【摘要】本發(fā)明公開(kāi)了通式I的新的苯甲酰胺類化合物， 以及它們的互變異構(gòu)體、對(duì)映體、非對(duì)映體和生理上可接受的 鹽。這些化合物在與腫瘤的治療過(guò)程中的用途，還涉及其用于 治療的方法，以及含有所述化合物的藥物組合物。【專利類型】發(fā)明申請(qǐng)【申請(qǐng)人】中
【摘要】 一種X射線衍射光學(xué)元件—高分辨率自支撐全鏤空透射光柵的制作方法，步驟如下：1.在自支撐X射線掩模襯基上淀積薄鉻薄金層；2.在薄鉻薄金層表面上甩電子束光刻膠，得到光柵圖形；3.所得片子放在電鍍液中電鍍出X射線掩模吸收體金圖形；4.所得片子去除電子束光刻膠；5.再去除電子束光刻膠圖形下的薄鉻薄金層；6.玻璃上旋涂聚酰亞胺，并固化；7.在聚酰亞胺表面上淀積金；8.在金表面旋涂X射線光刻膠，完成的高分辨率光柵X射線掩模進(jìn)行X射線光刻并顯影；9.對(duì)X射線光刻后的片子進(jìn)行金去除；10.去除聚酰亞胺；11.去除X射線光刻膠；12.背面腐蝕透玻璃；完成高分辨率自支撐全鏤空透射光柵的制作。 【專利類型】發(fā)明申請(qǐng) 【申請(qǐng)人】中國(guó)科學(xué)院微電子研究所 【申請(qǐng)人類型】科研單位 【申請(qǐng)人地址】100029北京市朝陽(yáng)區(qū)北土城西路3號(hào) 【申請(qǐng)人地區(qū)】中國(guó) 【申請(qǐng)人城市】北京市 【申請(qǐng)人區(qū)縣】朝陽(yáng)區(qū) 【申請(qǐng)?zhí)枴緾N200610003067.6 【申請(qǐng)日】2006-02-08 【申請(qǐng)年份】2006 【公開(kāi)公告號(hào)】CN101017214A 【公開(kāi)公告日】2007-08-15 【公開(kāi)公告年份】2007 【授權(quán)公告號(hào)】CN100501461C 【授權(quán)公告日】2009-06-17 【授權(quán)公告年份】2009.0 【IPC分類號(hào)】G02B5/18; G03F7/20; G03F7/26 【發(fā)明人】謝常青; 葉甜春 【主權(quán)項(xiàng)內(nèi)容】1、一種X射線衍射光學(xué)元件-高分辨率自支撐全鏤空透射光柵的 制作方法，這種X射線衍射光學(xué)元件主要用于X射線波段的譜學(xué)診斷，它 的特點(diǎn)采用電子束光刻技術(shù)手段制作一塊X射線掩模，然后并行的以X 射線光刻為手段進(jìn)行復(fù)制，從而制作出自支撐全鏤空透射光柵，其步驟如 下： 步驟1、在自支撐X射線掩模襯基上淀積薄鉻薄金層，作為電鍍襯 基； 步驟2、在薄鉻薄金層表面上甩電子束光刻膠，并進(jìn)行電子束光刻， 得到高分辨率光柵圖形，形成電鍍模子； 步驟3、將步驟2所得片子放在金電鍍液中電鍍出X射線掩模吸收體 金圖形； 步驟4、對(duì)步驟3所得片子去除電子束光刻膠； 步驟5、再去除電子束光刻膠圖形下的薄鉻薄金層，完成高分辨率 光柵X射線掩模的制作； 步驟6、玻璃上旋涂聚酰亞胺，并固化； 步驟7、在聚酰亞胺表面上淀積金； 步驟8、在金表面旋涂X射線光刻膠，用步驟5完成的高分辨率光 柵X射線掩模進(jìn)行X射線光刻并顯影； 步驟9、對(duì)X射線光刻后的片子進(jìn)行金去除； 步驟10、去除聚酰亞胺； 步驟11、去除X射線光刻膠； 步驟12、背面腐蝕透玻璃；完成高分辨率自支撐全鏤空透射光柵的 制作。 【當(dāng)前權(quán)利人】中芯國(guó)際集成電路制造(上海)有限公司; 中國(guó)科學(xué)院微電子研究所 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】上海市浦東新區(qū)張江路18號(hào); 北京市朝陽(yáng)區(qū)北土城西路3號(hào)中國(guó)科學(xué)院微電子研究所 【統(tǒng)一社會(huì)信用代碼】12100000400834434U 【被引證次數(shù)】15 【被自引次數(shù)】7.0 【被他引次數(shù)】8.0 【家族引證次數(shù)】2.0 【家族被引證次數(shù)】17
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