【摘要】本實用新型公開了一種卷繞鍍膜機,包括真空鍍 膜腔體、柔性基材和多個發射源,在所述的真空鍍膜腔體中設 置有基材卷繞輥、冷卻輥和成品卷繞輥,所述的柔性基材可依 次圍繞在所述的基材卷繞輥、冷卻輥和成品卷繞輥上,并形成 一U形半封閉或封閉空
【專利類型】外觀設計 【申請人】倪培云 【申請人類型】個人 【申請人地址】200000上海市盧灣區陜西南路420號 【申請人地區】中國 【申請人城市】上海市 【申請人區縣】黃浦區 【申請號】CN200630044703.0 【申請日】2006-11-09 【申請年份】2006 【公開公告號】CN300695843D 【公開公告日】2007-10-03 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN300695843D 【授權公告日】2007-10-03 【授權公告年份】2007.0 【發明人】倪培云 【主權項內容】無 【當前權利人】倪培云 【當前專利權人地址】上海市盧灣區陜西南路420號
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