【摘要】本發明涉及一種防泄漏噴頭，在第一機構中形成 第一變容空間的工作活塞下游位置，有一刮液活塞， 刮液活塞與第一機構中形成第一變容空間的缸相配 合，在第一機構中形成第一變容空間的缸上開有泄流 通道，該泄流通道處于工作活塞和刮液活塞的行程之
【摘要】 本發明提供一種堿水型顯影光成像抗蝕劑，它是 以改性馬來酸酐共聚物為主體樹脂，沸點為160℃以 上的液態脂肪族飽和羧酸酯為反應性稀釋劑，與光引 發劑和助劑組成，可作為油墨用于制造印刷線路板， 其涂層均勻，濕膜一經加熱即固化成干膜，就可用接 觸曝光制得高分辨率的印刷線路圖像。它不含揮發 性大的有機溶劑，粘度穩定，故使用方便安全、無環境 污染。 【專利類型】發明申請 【申請人】北京化工學院 【申請人類型】學校 【申請人地址】100029北京市北三環東路15號 【申請人地區】中國 【申請人城市】北京市 【申請人區縣】朝陽區 【申請號】CN91104683.6 【申請日】1991-07-16 【申請年份】1991 【公開公告號】CN1056754A 【公開公告日】1991-12-04 【公開公告年份】1991 【授權公告號】CN1021378C 【授權公告日】1993-06-23 【授權公告年份】1993.0 【IPC分類號】G03F7/00; G03F7/004 【發明人】任孝修; 黃明智; 饒國英; 姚光俊; 王啟明; 張煥印 【主權項內容】1、一種堿水型顯影光成像抗蝕劑，以改性馬來酸酐共聚物為主體樹脂與稀釋劑、光引發劑和助劑組成，其特征在于稀釋劑為液態脂肪族飽和羧酸酯組成的反應性稀釋劑，抗蝕劑的組成按重量份數為： A、主體樹脂：改性馬來酸酐共聚物？？？？？？？？100份； B、反應性稀釋劑：液態脂肪族飽和羧酸酯？？100-300份； C、光引發劑？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？1-10份； D、助劑？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？50-100份。 關注公眾號馬克數據網 【當前權利人】北京化工學院 【當前專利權人地址】北京市北三環東路15號 【引證次數】3.0 【被引證次數】4.0 【他引次數】3.0 【被他引次數】4.0 【家族引證次數】3.0 【家族被引證次數】4.0
未經允許不得轉載：http://www.mhvdw.cn/1775182333.html
喜歡就贊一下
