【摘要】本發明是采用電磁控陰極電弧源的鍍滲設備，屬 于真空鍍膜、離子鍍膜、離子滲金屬領域。其技術特 征在于控制電磁線圈的排布方式，在放電過程中不斷 改變線圈電流的方向和大小。在靶面產生的軸向磁 場分量和徑向磁場分量在靶材徑向不斷變化，使場致
【摘要】 本實用新型的凸輪控制無鎖直鍵開關可變衰減 器，是電子測試計量儀器，它由四個衰減單元組成，每 個衰減單元均有“直通”和“衰減”兩個位置，通過用凸 輪控制無鎖直鍵開關，使衰減單元進行不同組合，實 現不同衰減值，達到十二級的衰減量的步進可變，在 國民經濟各部門作為調整、測試標準用。 關注微信公眾號馬克數據網 【專利類型】實用新型 【申請人】韓鐵生 【申請人類型】個人 【申請人地址】100083北京市海淀區花園北路48號 【申請人地區】中國 【申請人城市】北京市 【申請人區縣】海淀區 【申請號】CN90204019.7 【申請日】1990-04-06 【申請年份】1990 【公開公告號】CN2080265U 【公開公告日】1991-07-03 【公開公告年份】1991 【授權公告號】CN2080265U 【授權公告日】1991-07-03 【授權公告年份】1991.0 【IPC分類號】H03H7/24; G01R15/00 【發明人】韓鐵生 【主權項內容】1、本實用新型為凸輪控制無鎖直鍵開關可變衰減器，其特征是：四個衰減單元各有“直通”和“衰減”兩個位置，四個形狀及相對位置固定的四個凸輪通過無鎖直鍵開關，控制四個衰減單元，使其進行不同的組合，實現電信號的步進可變衰減。 來源：百度馬 克 數據網 【當前權利人】韓鐵生 【當前專利權人地址】北京市海淀區花園北路48號 【被引證次數】2.0 【被他引次數】2.0 【家族被引證次數】2.0
未經允許不得轉載：http://www.mhvdw.cn/1774184326.html
喜歡就贊一下
