【摘要】本發明涉及一種四方氧化鋯納米粉和添加了較 大氧化鋁量的牙科用氧化鋯修復體材料，不但無需溶液浸泡就 能使氧化鋯粉體著色來解決顏色問題，而且更能使抗時效與內 著色問題同時得到解決，并能有效控制生產成本和產品質量。 本發明還涉及由以上四方
【摘要】 本發明公開了一種借助在稀薄氣體的兩個電極 間施加電壓產生輝光放電引發半導體摻雜的技術。 它能在實現高摻雜濃度的同時獲得對淺摻入層的有 效控制，并且具有摻雜均勻、損傷小等效果。該技術 設備簡單，操作方便，成本低廉。 【專利類型】發明申請 【申請人】中國科學院微電子中心; 中國科學院半導體研究所 【申請人類型】其他,科研單位 【申請人地址】100010北京市650信箱 【申請人地區】中國 【申請人城市】北京市 【申請人區縣】東城區 【申請號】CN90102351.5 【申請日】1990-04-25 【申請年份】1990 【公開公告號】CN1056017A 【公開公告日】1991-11-06 【公開公告年份】1991 【IPC分類號】H01L21/225; C30B31/02; C30B31/00; H01L21/02 【發明人】李秀瓊; 王培大; 馬祥彬; 孫惠玲; 王純 【主權項內容】1、一種半導體的摻雜技術，其特征在于，在不足一個大氣壓的稀薄氣體中設置兩個電極，將表面附著雜質源的半導體置于其中的一個電極上，在兩個電極之間施加電壓使之產生輝光放電，通過調節輝光放電的電壓、電流與時間實現對摻入半導體內雜質濃度與深度的控制。 【當前權利人】中國科學院微電子中心; 中國科學院半導體研究所 【當前專利權人地址】北京市650信箱; 【統一社會信用代碼】12100000400012385U 【被引證次數】1.0 【被他引次數】1.0 【家族被引證次數】1.0
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