【摘要】本技術方案是在不拆除原建筑的情況下采用框 架結構加層,令原建筑從3至5層,升高為8至13 層,而不拘原建筑地基層質的硬軟。所加重量不壓在 原建筑物上,并使框架同原建筑整體化,兩種組合結 構必須連結,在基礎應力疊加區,要設防滑裝置,“
【摘要】 本發明涉及一種真空光電成象器件。它提供一種采用直接轉換方式工作的近貼聚焦轉換圖象的X射線象增強器它由X射線光電陰極,與光電陰極近貼聚焦的微通道板和與微通道板近貼聚焦的輸出熒光屏等組成,應用于X射線成象裝置,其分辨率高,人眼可直接目視,功耗小,安全,可廣泛應用于透視診斷、無損探傷、結構透視和保安透視檢查等。。更多數據:搜索馬克數據網來源:www.macrodatas.cn 【專利類型】發明授權 【申請人】廈門大學; 中國科學院長春光學精密機械研究所 【申請人類型】科研單位,學校 【申請人地址】361005福建省廈門市思明南路422號 【申請人地區】中國 【申請人城市】廈門市 【申請人區縣】思明區 【申請號】CN88102912.2 【申請日】1988-05-13 【申請年份】1988 【公開公告號】CN1014478B 【公開公告日】1991-10-23 【公開公告年份】1991 【授權公告號】CN1014478B 【授權公告日】1991-10-23 【授權公告年份】1991.0 【IPC分類號】H01J31/50; H01J1/34; G01J1/00; G01J1/58; H01J1/02; H01J31/08 【發明人】楊曉文; 佘永正; 吳存亞 【主權項內容】1、一種真空型X射線象增強器,設有光電陰極,起電子倍 增作用的微通道板和輸出熒光屏,光電陰極由陰極基底和陰極發 射體層組成,陰極基底采用輕金屬箔(例如鋁箔),發射體層采 用堿金屬鹵化物,微通道板與輸出熒光屏之間近貼聚焦,本發明 其特征在于光電陰極為發射體層采用密實層加疏松層變密度結構 的X射線光電陰極,即在陰極表面有一厚度為1~2μm,密度為 50~100%,即2~4g/cm3的密實層作為襯底層,從密實 層面至發射表面是密度呈減小變化,疏松層的厚度為100~ 300μm,起始處的密度為30~50%,發射表面密度為2~ 5%,光電陰極與微通道板近貼聚焦。 【當前權利人】上海華科電子顯像有限公司 【統一社會信用代碼】12100000B36952193C 【引證次數】2.0 【被引證次數】4.0 【他引次數】2.0 【被他引次數】4.0 【家族引證次數】2.0 【家族被引證次數】12.0
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