【摘要】對裝飾材料的改進。通過采用廠家生產裝飾材 料同時，直接在其背面噴涂一層新型壓敏膠粘接劑， 并帶有紙質保護層。使用時只需揭下保護層，將裝飾 材料面覆蓋在平整的被裝飾面上壓實即可，從而減低 了生產及施工的成本，提高了勞動生產率。來自：w
【摘要】 本發明是一項用離子注入并配合真空退火而組成的新方法，它可以用于改善濺射方法制備的Co-Cr合金薄膜的磁學性能，使之達到作為高密度垂直磁記錄介質的技術指標。本方法具有良好的重復性。 【專利類型】發明授權 【申請人】清華大學 【申請人類型】學校 【申請人地址】北京市海淀區清華園 【申請人地區】中國 【申請人城市】北京市 【申請人區縣】海淀區 【申請號】CN87104390.4 【申請日】1987-06-25 【申請年份】1987 【公開公告號】CN1014007B 【公開公告日】1991-09-18 【公開公告年份】1991 【授權公告號】CN1014007B 【授權公告日】1991-09-18 【授權公告年份】1991.0 【IPC分類號】G11B5/85; C23C14/48; C23C14/58; G11B5/848 【發明人】柳百新; 李健; 李恒德 【主權項內容】1.一項改善Co-Cr合金薄膜磁學性能的方法，其特征在于對濺射制備的Co- Cr合金薄膜，用惰性氣體離子注入，注入的離子所攜帶能量在100～600Kev之 間，離子束流強度在1～4μA/cm2，劑量在1×1015～7×1016離子/Cm2之間， 注入后進行真空退火，溫度在80～340℃之間，退火時間為30分鐘。 【當前權利人】清華大學 【當前專利權人地址】北京市海淀區清華園 【專利權人類型】公立 【統一社會信用代碼】12100000400000624D 【引證次數】1.0 【他引次數】1.0 【家族引證次數】1.0 【家族被引證次數】2.0
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